激光淬火用途

接下来为大家讲解浙江激光淬火设备原理，以及激光淬火用途涉及的相关信息，愿对你有所帮助。

简述信息一览：

• 1、激光淬火表面处理
• 2、激光淬火需要加热装置吗
• 3、激光快速退火原理
• 4、激光淬火都有哪些技术要求?
• 5、激光淬火的优势

激光淬火表面处理

1、激光淬火是一种表面处理技术，通过激光束的快速加热和冷却，可以在材料表面形成一层硬度高、耐磨性好的硬化层。

2、激光表面淬火是用高能激光束照射到工件表面，使表层温度迅速升高至相变点之上（低于熔点）。由于金属良好的导热性，当激光束移开后，实现材料的相变硬化。

3、激光表面处理是通过高能激光束与材料表面相互作用，产生物理和化学效应，以改变材料表面性能的一种方法。它可以包括激光淬火、激光熔覆、激光合金化等多种处理技术。

4、激光淬火适合小零件，硬化深度：0.2--5mm，不需要淬火冷却介质，工件变形小，加热层深度和部位可以精确控制，易于实现自动化操作，淬火后不需要回火，更适合于结构复杂的小面积淬火。成本较高。

激光淬火需要加热装置吗

1、需要。激光淬火是一种表面处理技术，通过高能激光束照射金属表面，使其迅速加热至熔化或相变温度，然后迅速冷却，从而改变金属表面的组织和性能，因此，激光淬火需要加热装置，即高能激光束。

2、不需要。激光淬火利用高能激光进行快速加热和冷却，具备快速加热和自激冷却的特点。激光束能够迅速将金属表面加热到高温，在短时间内迅速冷却，形成超细马氏体组织和高硬度。

3、要。激光淬火要加热装置。激光淬火是一种通过高能激光束照射金属表面来实现表面处理的技术。在激光淬火过程中，高能激光束被聚焦在金属表面，能够迅速加热至熔化或相变温度，通过自冷或外部冷却介质迅速冷却。

激光快速退火原理

1、激光退火技术开始主要用于修复离子注入损伤的半导体材料，特别是硅.传统的加热退火技术是把整个工件放在真空炉中，在一定的温度（300°～1200℃）保温退火10～60min。

2、激光退火技术开始主要用于修复离子注入损伤的半导体材料，特别是硅，在一定的温度（300°～1200℃）保温退火10～60min。退火是一种金属热处理工艺，指的是将金属缓慢加热到一定温度，保持足够时间，然后以适宜速度冷却。

3、快速热退火是用各种热辐照源，直接照射在样品表面上，迅速将样品加热至700-200℃左右在几秒-几十秒的时间内完成退火。

4、可以提高钢材表面的硬度和耐腐蚀性。DNS激光退火无需加热炉和加热介质，只需通过激光辐射即可完成表面处理，非常简单易操作，同时可以减少环境污染。相比于传统的热处理方法，DNS激光退火可以更快地完成退火作业。

5、退火细化晶粒的原理在于重结晶，即在退火过程中，通过奥氏体重结晶形成，改变原有粗大晶粒的状态，在随后的处理中，如果能保证重结晶形成的奥氏体晶粒不长大（控制加热温度和时间），即可达到细化晶粒的作用。

激光淬火都有哪些技术要求?

***用激光淬火齿面，其加热冷却速度很高，工艺周期短，不需要外部淬火介质.具有工件变形小，工作环境洁净，处理后不需要磨齿等精加工，且被处理齿轮尺寸不受热处理设备尺寸的限制等独特优点。

淬火温度在950～1000℃之间，油淬，设备：井式炉 。 回火温度在550-650℃之间，回火不少于2次。

激光淬火是利用激光将材料表面加热到相变点以上，随着材料自身冷却，奥氏体转变为马氏体，从而使材料表面硬化的淬火技术。

激光淬火的优势

1、激光淬火的优势有加工柔性好，适用面广、工艺周期短、热畸变最小等。加工柔性好，适用面广 可以利用灵活的导光系统随意将激光导向处理部位，从而可方便地处理深孔、内孔、盲孔和凹槽等难加工区域和空间非常小的局部区域。

2、高度精确：激光淬火利用高功率密度（数百万瓦特/立方厘米）的激光束，可以对目标表面进行高度精确的控制。相比传统的淬火工艺，如喷水淬火，激光淬火的温度和冷却速度都能被精确地控制。这大大提高了加工的精度和一致性。

3、从激光淬火齿面硬度、硬化层深度以及抗点蚀疲劳强度等性能指标看，激光淬火完全可以取代常规的齿轮渗碳工艺。（2）激光淬火工艺***用了常用普通中碳钢代替昂贵的合金渗碳钢，从而有效地降低了生产成本，产生了良好的经济效益。

4、淬火硬度比常规方法高，淬火层组织细密、强韧性好，高碳合金钢，大型轧辊。激光淬火是快速加热、自激冷却，不需要炉膛保温和冷却液淬火，是一种无污染绿色环保热处理工艺，可以很容易实行对大型模具表面进行均匀淬火。

关于浙江激光淬火设备原理，以及激光淬火用途的相关信息分享结束，感谢你的耐心阅读，希望对你有所帮助。